印刷晒版的操作步骤及工艺流程

曝光机也是晒版机，只是叫法不同。

晒版的工艺流程为：制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶

检查修正：将曝光、显影后的PS版存在的质量问题加以修正。

烤版：指在高温环境中对PS版的图文基础进行热处理，目的是增强图文部分的稳定性、耐蚀性和机械强度。

提墨：在版面上涂擦显影墨。提墨具有增强图文部分的亲墨性和便于检查等作用。

擦胶：选用一种化学胶质，涂擦到版面上，从而使印版抗脏、防尘、防氧化。

ldi曝光机焦面下降后会影响曝光能量吗

1、对曝光能量无明显影响；

2、对线路的解析度有很大影响。

3、主要会造成异常有：A、下降后，集成电路基板，LDI无法继续曝光出精密的线路，单条变粗，会造成曝光不良；

B、会直接造成产品开短路或者线路变粗或变细（正负片变化相反）

4、通常LDI曝光机生产前，都会量测产品厚度，根据测量数据，调整焦距高低，进行补偿，就是为了改善这个问题。

5、如果你的产品线宽线距都很大，焦距轻微变化一点点，并不会造成很大影响，精密线路就会受到很大影响。

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

操作要求：

（1）工作环境温度应在0-40℃，相对湿度要小于80%；工作玻璃应符合GB 4871－1995中一等品的规定。有效工作表面不得有划伤、气泡、霉变等缺陷；工作面的照度均匀度不得小于86%。具体检测方法如下：在无干扰光源的情况下，将光源调整到正常工作的较低位置，把精度不低于±4%的照度计测头置于工作玻璃面上测取版框中心、四角及各边中心的照度值Li，按公式A=[1-(|Li-L| max)/L]×计算晒版机工作面上的照度均匀度，其中：A为照度均匀度，Li为各测点照度值，L为9个测点照度平均值。

集成电路基板-江苏迪盛微电子科技由迪盛（武汉）微电子有限公司提供。迪盛（武汉）微电子有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在迪盛智能领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创迪盛智能更加美好的未来。