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 溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:

 热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。










贵重金属回收指的是从一些特定材料中回收有再利用价值的金属废料。许多珍贵金属回收服务企业采用的精练技术提取金,贵金属靶材加工,银,铂等金属。这些程序可以从工业废料,电线中提取珍贵的非铁金属。黄金提炼回收服务应用于各种行业,包括航空航天,台湾贵金属靶材,珠宝,半导体和印刷电路板行业。


金属精炼能力可以包括熔炼和通过焚烧热还原。回收涉及从金属材料中分离贵重金属,其中一些材料可能包括催化剂,如电子组件或印刷电路板。为了更好的分离或清除金属,普遍采用水解或热解等程序。



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