PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，金属表面镀钛厂家公司，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。


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金属表面处理PVD镀钛种类：氮化钛(TiN)，镀铬(CrN)， ROSE，郑州金属表面镀钛厂家，氮铝钛(TiAlN)，高铝钛(AlTiN)， PLUS，氮碳化钛(TiCN)，氮碳化铬(CrCN)等各种超硬膜层，其涂层厚度可达到0.5～5um，故而您不用担心会给尺寸带来麻烦，金属表面镀钛厂家价格，并以工艺使产品具有良好的润滑、散热（干式），使工件寿命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，从而降低生产成本。


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