微光显微镜侦测得到亮点之情况：会产生亮点的缺陷 - 漏电结（Junction Leakage）; 接触毛刺（Contact spiking）; （热电子效应）Hot electr;闩锁效应（ Latch-Up）;氧化层漏电（ Gate oxide defects / Leakage(F-N current)）;多晶硅晶须（Poly-silicon filaments）; 衬底损伤（Substrate damage）; （物理损伤）Mechanical damage等。原来就会有的亮点 - Saturated/ Active bipolar transistors; -Saturated MOS/Dynamic CMOS; Forward biased diodes/Reverse；biased diodes(break down) 等。

其实利用在检测芯片的过程当中，其实这种方法是非常有效的，关于emmi分析国内目前的技术通常已经达到了要求，化学开封机，在对芯片进行检测过程当中，利用微光显微镜它的效果通常是非常明显的。比如说如果说亮点被遮掩的过程当中采用的是利用境外红波的发光，等离子开封机，通过抛光的处理来进行探测，开封机，这样才能够有效的去发现金属归沉寂的有效缺陷。

超景深显微镜是一种双目观察的连续变倍实体显微镜，专为要求工作距离长，观察视域大的用户而设计，成像清晰，外形美观。　　产品用途：超景深显微镜能将微小的物体加以放大，形成清晰正的立体像。可供卫生、农林、、学校、科研部门作观察分析用，也适用于电子工业和仪器仪表行业作精细零部件的检验、装配、修理。　　连续变倍单筒视频显微镜提供的光学系统和耐用可靠的操作机构。




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