半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，压缩机氦检漏系统价格，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

空调检漏系统

不同类型的泄漏有着不同的表现。泄漏处的几何结构、压力、材料、湿度、温度以及流量都是影响泄漏表现的因素。过多干扰因素给检漏工作带来了很大的挑战。

以下三种难检测类型是小编搜集和分析的案例。

类型 1：射束泄漏

在使用示踪气体检漏时，有时可能只能定位极狭窄区域。与此同时，您却得到泄漏指示，但是与测试对象远离(几英尺/分米)，因而原因不明。

您发现的泄漏可能是非常狭小且高速射出示踪气体细束，这几乎跟激光器射出的窄激光束的情形一样。离泄漏点越远，射束就散开得越大，但即便距离泄漏点相当远的距离，射束可能依然非常细窄。

气体射束可能撞到操作员或周围的结构并发生“回弹”，从而导致操作员弄不清楚射束的真实来源位置。如果注意到这种难以检测的泄漏，就可以节省宝贵的检测时间。

类型 2：不明显的液体泄漏

对产品进行液体泄漏测试时，结果可能是产品不存在泄漏，但如果用示踪气体检漏法进行检测，就能够可靠地发现泄漏。

漏孔可以将漏液以非常缓慢的速度送到泄漏处的表面，以致于液体在到达物体外部的表面时，即被蒸发。液体蒸发速度非常快，在泄漏点无明显痕迹。

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氦质谱检漏仪

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