PVD（Physical Vapor Deition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。

蒸发镀膜

真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。

采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。

基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.

b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。

c、蒸发速率.蒸发速率小时，装饰镀钛报价，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.

d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，民权装饰镀钛，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，装饰镀钛怎么收费，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.

5、表面若被漂白剂或者酸附着，立即用水冲洗，装饰镀钛服务电话，再用或中性碳酸苏打水溶液浸洗，用中性洗涤剂或温水洗涤。

6、表面有彩虹纹，是过多使用洗涤剂或油引起，洗涤时用温水中性洗涤剂可洗去。

7、禁止使用含漂白成分以及研磨剂的洗涤液、钢丝球、研磨工具等来清洗，为避免残余洗涤液，腐蚀表面，洗涤结束时要用洁净水冲洗表面。

8、禁止产品接触强酸强碱的化学物品。

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