LDI机

LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言，有三个独立的因子会影响曝光速率：

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出，主要来自于系统的光源设计，LDI直接成像曝光机，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。

江苏迪盛智能科技有限公司成立于江苏徐州丰县经济开发区，旗下有友迪激光、芯迪半导体科技、江苏钧迪智能装备三个独立子公司，并在苏州建立研发中心，已有研发团队30人，涵盖光机电软与运动系统。

我们的主力产品是数字化直接成像曝光机、物理气相沉积真空镀膜设备、新能源自动化设备与感光油墨，三大主力产品已进入量产，2018年将加大生产规模，LDI直接成像曝光机价格，增加市场占有率，三年内我们将成为中国的工艺解决方案的引i领者。

DI直接成像曝光机

1、技术优势：

所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，LDI直接成像曝光机生产，光学头在板材上方连续移动曝光，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。

2、耗电低：

待机时只需消耗350W，LDI直接成像曝光机厂家，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。

LDI直接成像曝光机-江苏迪盛微电子科技由迪盛（武汉）微电子有限公司提供。行路致远，砥砺前行。迪盛（武汉）微电子有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为光电子、激光仪器具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!