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芯片失效分析步骤:

1、非破坏性分析:主要是超声波扫描显微镜(C-SAM)--看有没delamination,等离子开封机,xray--看内部结构,等等;

2、电测:主要工具,万用表,示波器,等离子开封机设备, tek370a

3、破坏性分析:机械decap,化学 decap芯片开封机

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同时利用光诱导的电阻,它的主要原理是利用激光电视,在恒定电压之下进行扫描,通过一部分能量转化为热能,可以关注它所发生的实际变化。这样在检测的过程当中,效率就会得到大幅度的提高。因此在检测芯片的过程当中,其实有很多比较重要的方法,客户可以去关注emmi检测和他的分析方式,目前国内关于芯片的检测机构并不是特别的成熟。





半导体常用失效分析检测仪器;

显微镜分析OM无损检测

金相显微镜OM:可用来进行器件外观及失效部位的表面形状,尺寸,结构,缺陷等观察。金相显微镜系统是将传统的光学显微镜与计算机(数码相机)通过光电转换有机的结合在一起,不仅可以在目镜上作显微观察,还能在计算机(数码相机)显示屏幕上观察实时动态图像,电脑型金相显微镜并能将所需要的图片进行编辑、保存和打印。金相显微镜可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用,实现样品外观、形貌检测  、制备样片的金相显微分析和各种缺陷的查找等功能。












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