钢研纳克SparkCCD7000
高分辨率 CCD 检测器
像素数:3648+46 全行业较高
像素尺寸:8μm 全行业较小
精薄镀膜,紫外波段检出限更低,可做低含量 N
万级超净环境下打造较优光学系统
帕邢 - 龙格结构罗兰光学系统,无像差,分辨率均匀
高发光全息光栅,CCD光谱仪厂家,光栅焦距 500mm, 刻线为 2700 条 /mm,全行业较高
线分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
谱线范围:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)
智能控制系统,再启动耗时行业较低
潮汐式冲洗方式,冷机(关机 12 小时)启动只需 30min,热机启动时间 5min
智能判断分析间隔时间,合理补充气,降低气消耗
60ml/min 超低待机流量,一瓶气 24 小时待机 70 天
分片式曝光,痕量元素识别强度大幅提高,检出限更低
一次激发,分片曝光,同时采集,同时回数
独立控制不同 CCD 的积分曝光时间
提升痕量元素的强度,降低仪器的检出限
随波段调节积分时间,提升仪器的 稳定性
直读光谱仪器的误差来源有哪些?
1)系统误差也叫可测误差,一般包括仪器的本身波动;样品的给定值和实际值存在一定的偏差(标准样品的元素定值方法可能和实际检测方法不一致,这样检测结果会有方法上的差异;同一种方法的检测结果也存在一定的波动);待测样品和系列标样之间存在成分的差异,可能导致在蒸发、解离过程中的误差,如背景强度的差别和基体蒸发的差异等。
2)偶然误差是一种无规律性的误差,如试样不均匀;检测时周围的温湿度、电源电压等的变化;样品本身的成分差异等。
3)过失误差是指分析人员工作中的操作失误所得到的结果,可以避免。如制样不准确,样品前处理不符合要求,控样和待测试样存在制样偏差,选择了错误的分析程序等。
光电光谱分析选用的分析线,必需符合下列要求
直读光谱分析时,一般都采用内标法。因内标法进行分析时常采用多条分析线和一条内标线组成,常用试料中的基体元素为内标元素。组成的线对要求均称,就是当激发光源有波动时,两条线对的谱线强度虽有变化,但强度比或相对强度能保持不变。
如R表示强度比即
R=I1/I0
I1为分析线的强度,Io为内标线强度,表明I1和Io同时变,而R则不受影响。R与含量C之间有线性关系。
在光电直读光谱分析时,有很多分析通道,要安装许多内标通道有困难,因此采用一个内标线。但有人认为再要提高光电光谱分析的准确度还得采用不同的内标线,这还有待于光电转换元件的小型化来解决。
光电法时,有时还用内标线来控制曝光量,称为自动曝光,也就是样品在曝光时,分析线和内标分别向各自积分电容充电,当内标线的积分电容器充电达到某一预定的电压时,自动截止曝光。此时分析线的积分电容器充电达到的电压即代表分析线的强度I,并且亦即代表分析线的强度比R(因为R=I1/Io,而此时Io保持常数)这个强度I或强度比R就由测光读数所表示。
现在一般采用计时曝光法较为普遍。
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