影响阳极氧化的氧化膜质量的因素有：

电解液中的杂质：在铝阳极氧化所用电解液中可能存在的杂质有Clˉ，Fˉ，NO3ˉ，Cu2+，Al3+，Fe2+等。其中 Clˉ，Fˉ，NO3ˉ使膜的孔隙率增加，表面粗糙和疏松。若其含量超过极限值，甚至会使制件发生腐蚀穿孔（Clˉ应小于0.05g/L，Fˉ应小于0.01g/L）；当电解液中Al3+含量超过一定值时，铝氧化加工，往往使工件表面出现白点或斑状白块，并使膜的吸附性能下降，染色困难（Al3+应小于20g/L）；当Cu2+含量达0.02g/L时，氧化膜上会出现暗色条纹或黑色的斑点；Si2+ 常以悬浮状态存在于电解液中，使电解液微量混浊，以褐色粉状物吸附于膜上。

工艺铝及其铝合金阳极氧化的方法很多，常用的有硫酸阳极氧化、铬酸阳极氧化、草酸阳极氧化、硬质阳极氧化和瓷质阳极氧化。硫酸在稀硫酸电解液中通以直流和交流电对铝及其合金进行阳极氧化处理，可获得5～20微米厚，吸附性较好的无色透明氧化膜。硫酸阳极氧化工艺简单，溶液稳定，操作方便，铝氧化生产厂家，允许杂质含量范围较宽，电能消耗少，成本低，且几乎可以适用于铝及各种铝合金的加工，所以在国内已得到了广泛的应用。

氧化膜的生长过程就是氧化膜不断生成和不断溶解的过程。一段a（曲线ab段）：无孔层形成。通电刚开始的几秒到几十秒时间内，无锡铝氧化，铝表面立即生成一层致密的、具有高绝缘性能的氧化膜，厚度约0.01～0.1微米，为一层连续的、无孔的薄膜层，铝氧化加工厂，称为无孔层或阻挡层，此膜的出现阻碍了电流的通过和膜层的继续增厚。无孔层的厚度与形成电压成正比，与氧化膜在电解液中的溶解速度成反比。因此，曲线ab段的电压就表现出由零急剧增至*大值。

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