靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下，金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度，即可确定靶电流密度.

降低Ar压强有利于提高镀膜速率，还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa，气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时，可以适当调节Ar压强，

点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热

缺点电子结构复杂，镀钛厂家服务电话，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调

3激光蒸发镀膜

采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，金属表面镀钛厂家服务电话，一般称为激光蒸镀。

优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致

缺点

    易产生微小颗粒飞溅，镀钛厂家服务电话，影响薄膜质量

带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。

PVD技术四个工艺步骤

(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，真空镀钛厂家服务电话，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；

(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。

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