化学镍电镀-化学镍-润玺





化学镍电镀和电镀镍的主要区别1.化学镍电镀层表面是极为均匀的,只要镀液可以浸泡得到镍层表面,电镀过程中溶质交换充分,镀层就会非常均匀,化学镀镍工艺,几乎可以达到仿形的效果。

2.电镀无法对一些形状复杂的产品素材进行全表面施镀,但化学镀可以对任何形状工件施镀。

3.高磷的化学镍电镀层为非晶态,镀层表面没有任何晶体间隙,而电镀层为典型的晶态镀层。

4.电镀因为有外加的电流,所以镀速要比化学镀快得多,化学镍电镀,同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。

5.化学镀层的结合力要普遍高于电镀层

6.化学镀由于大部分使用食品级的添加剂,化学镍,不使用诸如化物等有害物质,所以化学镀比电镀要环保一些。

7.化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实现很多色彩。






电镀化学镍是用恢复剂把溶液中的镍离子恢复堆积在具有催化活性的表面上。化学镍可以选用多种恢复剂,现在工业上使用广泛的是以次磷酸钠为恢复剂的化学镍工艺,其反应机理,广泛被承受的是“氢化物理论”和“原子氢理论”。

1、氢化物理论

氢化物理论认为,次磷酸钠分解不是放出原子态氢,而是放出恢复才能更强的氢化物离子(氢的负离子H-),镍离子被氢的负离子所恢复。在酸性镀液中,H2PO2-在催化表面上与水反应,在碱性镀液中,则为镍离子被氢负离子所恢复,即氢负离子H-一同可与H20或H+反应放出氢气:一同有磷恢复析出。

2、原子氢理论

原子氢理论认为,溶液中的Ni2+靠恢复剂次磷酸钠(NaH2P02)放出的原子态活性氢恢复为金属镍,而不是H2PO2-与Ni2+直接作用。

先是在加热条件下,次磷酸钠在催化表面上水解释放出原子氢,或由H 2PO2-催化脱氢发生原子氢,即然后,吸附在活性金属表面上的H原子恢复Ni2+为金属Ni堆积于镀件表面.一同次磷酸根被原子氢恢复出磷,或发作自身氧化恢复反应堆积出磷,化学镍处理,H2的析出既可以是由H2POf水解发生,也可以是由原子态的氢结合而成。






化学镍电镀加工工艺具有薄膜厚度均匀性,又称化学镀镍。化学镍电镀加工是一种没有电流经过而构成的结膜,所以因为电流分布不均匀,薄膜厚度不会不均匀。只需溶液的成分足够,再加上一定的温度,工件就能够有均匀的厚度,乃至盲孔、齿孔、沟槽等异型零件都能够达到相同的效果。化学镍电镀加工工艺可堆积在各种资料上,如:钢件、铝合金、塑料、半导体等资料外表。从而提高资料功能。




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