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光刻靶的制造材料需要具有良好的机械性能。这意味着材料需要具有较高的强度、硬度和韧性，以承受光刻过程中的各种应力和冲击。高质量的金属材料，如不锈钢、铝合金等，通常具有这些性能，宝坻光刻掩膜，因此常被用于光刻靶的制造。其次，光刻靶的制造材料还需要具有良好的化学稳定性。在光刻过程中，光刻掩膜厂，光刻靶可能会接触到各种化学试剂和气体，因此需要具有优异的耐腐蚀性和防氧化性。一些特殊的合金和复合材料，如陶瓷、石英等，因其优异的化学稳定性而被广泛应用于光刻靶的制造中。

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