耗材

硅片

硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，SU8光刻机价格，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。

耗材

光刻掩膜板

菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构，通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单，适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而，由于其分辨率有限，无锡SU8光刻机，无法满足制备细致微结构的需求。因此，对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构，菲林掩膜板是一个合适的选择。

玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构，以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺更加复杂，但由于其高分辨率，能够实现更细致、更精que的微结构。特别是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下，玻璃掩膜板具有明显优势。

在选择掩膜板类型时，应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构，而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求，SU8光刻机，选择适当的掩膜板类型将有助于确保制备过程的成功和效率。

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热板

温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm

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