微弧氧化膜层生长时，首先在基体表面发生化学反应，生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时，膜层厚度会进一步增加，厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时，膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿，产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融，基体元素由于处在富氧环境中，微弧氧化生产线优势，将形成氧化物。同时由于是在电解液中，熔融物将瞬间冷凝，在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成，将导致工作电压进一步升高，膜层再次被击穿，膜层厚度进一步增加。周而复始，膜层得以生长。

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相比MoO3，加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳，钛微弧氧化生产线，在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍，比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。

此外，这2种添加剂的加入，微弧氧化生产线，均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层，起显色作用的物质是MoO2。

微弧氧化技术广泛用途

微弧氧化技术广泛运用于航空航天、航空公司、机械设备、交通出行、石油化工设备、纺织品、包装印刷、电子器件、轻工业、诊疗等领域。微弧氧化技术的应用推广已获得基本成效。该成效在航空航天、车辆、机械设备、电子器件、纺织品、轻工业、等领域中激发了一股应用微弧氧化技术的风潮。微弧氧化技术是近几年国内盛行的高新科技技术，是原材料表面改性材料的一种关键方式。

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