ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究

利用硅酸盐复合电解液体系，在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。

所用的工艺参数为：恒流控制，电流密度3 A/dm^2，频率500 Hz，终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析；对膜层的化学成分进行分析；采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。

结果表明：所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。

时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响

在其他工艺参数相同的情况下，不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时，钛合金微弧氧化技术，膜层增厚较少；随着时间的延长，膜层逐渐增厚；但是封闭时间过长，如封闭时间超过60min后，微弧氧化技术优点，膜层增厚并不显著，而且有下降的趋势。

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用正交试验法，对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标，以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计，并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察；利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。

结果表明：影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；

影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；

采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为：正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。

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