而镀钛呢，技术虽然与镀金、镀银有着相同之处，但是由于钛的本身特质决定，镀钛实际上是在物体的表面利用电的化学办法镀上了一层钛膜，它与我们常说的水镀差不多。听说镀钛采用的水镀工艺就是我们比较熟知的电镀工艺。据说，电镀工艺霸占了很长时间的镀膜工艺市场，主要因为它本身具有的毒性非常大，因此市场才逐渐缩小。

基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.

b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。

c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，真空镀钛哪里有，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.

d、基片的温度.在通常情况下，曹县镀钛哪里有，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，镀钛哪里有，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.

溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成离子(Ar )，离子在电场力的作用下，金属表面镀钛哪里有，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。　溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。


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