LPE的硅外延层，以其良好的电学、光学及其生长特性，1260液相设备厂家，而在CVD无法胜任的领域应用前景诱人.目前，取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1]  .场控制器件：CVD在硅器件的埋结制造中，因自掺杂而出现埋层尺寸增加，晋城1260液相设备，密排栅极叉指制造也受到严重影响，1260液相设备哪里有，而LPE因其可以消除自掺杂，而在这方面得到应用，尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造，其优点更为明显 [1]  .

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