数显测厚规（千分款）

测量匀胶厚度量程:0~10mm

精度：0.001mm

公差：≤±0.005mm

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue，通过专ye、创新和合作，云南SU8光刻机，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。

耗材

光刻掩膜板

菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构，通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单，适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而，由于其分辨率有限，无法满足制备细致微结构的需求。因此，对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构，菲林掩膜板是一个合适的选择。

玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构，以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺更加复杂，但由于其高分辨率，能够实现更细致、更精que的微结构。特别是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下，玻璃掩膜板具有明显优势。

在选择掩膜板类型时，应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构，而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求，选择适当的掩膜板类型将有助于确保制备过程的成功和效率。

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，坚持以客户为中心，不断挑战自我，SU8光刻机公司，不断追求zhuo越，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来

SU8模具制备流程

1.后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，SU8光刻机报价，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

2.显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，SU8光刻机企业，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

3.清洗

将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。

4.检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。

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顶旭微控(图)-SU8光刻机企业-云南SU8光刻机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：周经理。