广东SU8模具加工设备-顶旭-SU8模具加工设备设计

耗材

硅片

硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,SU8模具加工设备设计,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,SU8模具加工设备性能,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。





数显测厚规(千分款)




测量匀胶厚度量程:0~10mm

精度:0.001mm

公差:≤±0.005mm

顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。


SU8模具制备流程


1.备片

从化学品存放区取出清洁的硅片(确保硅片表面无尘)。




2.匀胶

1)打开匀胶机,将硅片放置在匀胶机托盘上,SU8模具加工设备企业,打开真空开关,确保硅片固定在托盘上不动;




2)将SU8光刻胶滴在硅片中间,根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。(举例说明:目标胶厚度50um,光刻胶型号:SU8-2075,1段500转8s,2段1800转30s)






3.前烘

1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有机溶ji,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)





4.曝光

1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,广东SU8模具加工设备,时间12s)




微流控芯片加工设备: 提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。







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