微弧氧化电源-日照微弧氧化工艺-微弧氧化电源原理
微弧氧化工艺
微弧氧化工艺技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化工艺技术工艺简单,对环境污染小,具备很大的性,它制备的膜层特点鲜明,微弧氧化电源,膜层与基体金属属于冶金结合,结合牢固,微弧氧化电源设备,在制备涂层方面具有明显优势,微弧氧化技术已被广泛应用于Al、Ti 和Mg等金属行业,是一种很有前景的表面处理工艺。
微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔(孔径为几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可由几百至三千左右) 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,微弧氧化电源原理,摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm,摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀(按)≥400h ,100kw微弧氧化电源,可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
微弧氧化处理如何耐海水腐蚀的检测?
人工配置海水,将试样悬挂置于装满海水的烧杯中,后将烧杯置于温度为60℃的恒温水浴锅中进行耐海水腐蚀测试。测试完毕,用自来水清洗试样,风干后用EX334ZH 万分之一电子天平检测试样重量变化。
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