铝 镁合金微弧氧化设备-日照微弧氧化电源-镁合金微弧氧化

采用微弧氧化技术对2A12、3A21两种铝合金基材加工的零件进行处理,并在模拟海洋大气环境的条件下,镁合金微弧氧化黑色膜,依据GJB150.11A-2009的要求对处理后的零件进行盐雾试验,研究铝合金微弧氧化膜层的腐蚀行为。结果表明,2A12铝合金经微弧氧化处理得到的黑色膜层光泽度低,具有良好的消光作用,微弧氧化膜层经酸性盐雾试验96 h后,镁合金微弧氧化封孔,出现不同程度的腐蚀脱落。










微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,镁合金微弧氧化,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,膜层得以生长。

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为探究工艺参数对铝合金微弧氧化膜层中蛇纹石含量的影响,采用微弧氧化技术,分别在双向恒压、单向恒压和单向恒流模式下,在添加蛇纹石微纳米颗粒的电解液中进行试验,在ZL109铝合金表面原位生长陶瓷层。采用SEM、EDS及XRD对膜层进行分析。

结果表明:在单向恒压和单向恒流模式下制得的微弧氧化膜层的蛇纹石含量相比双向恒压模式分别提高了92%和113%;



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