半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

地埋式污水处理设备运行过程   1.首先检查进气口和调节罐的格栅是否畅通无阻。   2.打开机房的电控箱   3.启动水泵，根据流量计调节水量，观察水位   4.当缺氧池和MBR池已满时启动风扇。   5.根据MBR池中设定的曝气时间进行曝气   6.在达到MBR池中的通气时间后，打开抽吸泵。   7.打开消毒装置并排出水。 地埋式污水处理设备控制有两种形式：手动控制和自动控制。   在PLC的控制下，进水泵根据每个反应池的水位自动运行。 抽吸泵间歇运行一段预设的时间。 当MBR反应罐处于低水位时，抽吸泵自动停止以保护膜组件。

工业废水处理设备是一种成型设备，可以根据企业的实际现场条件进行处理，并且可以直接放置在硬化的地面上，而无需土建。在空间上带来巨大的优势。  工业废水处理设备的整个系统由九部分组成，由PCL控制，然后可以达到自动处理，也可以将水的正常处理减少到高峰和低谷阶段。 工业废水处理设备的特点：整套设备可以埋在地下，不占地； 顶部可以美化。 净化度高，整个系统污泥少； 自动化程度高，能耗低，处理方便，生活污水处理，人员少。 产生的噪音低，气味小，并且对周围环境的影响小。

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