微弧氧化电源-日照微弧氧化工艺-实验微弧氧化电源

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积,前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平,实验微弧氧化电源,八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用,九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。








微弧氧化膜层形貌

截面:微弧氧化陶瓷层与基体以冶金型微熔过渡区连接。 其组织致密无穿孔,微弧氧化电源,且与基体成明显的微冶金型结合 。此类组织特征大大增强了陶瓷层对基体的防腐蚀保护能力。

表面: 盲孔微区分布 均匀,利于减摩条件下连续油膜的形成,改善润滑条件,降低摩擦系数,微弧氧化电源使用说明,延长使用寿命。对用于制取防腐保护涂层的产品,此类表面状态利于进行封孔或喷粉等后续处理,增强其附着力。



微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积,实质上是一种高压的阳极氧化,是一种新型的金属表面处理技术。该工艺是在适当的脉冲电参数和电解液条件下,使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象,进口微弧氧化电源,阳极上原有的氧化物瞬间熔化,同时又受电解液冷却作用, 进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。

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