真空腔体

电解抛光

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，北京真空腔体加工价格，材料表面几何粗糙下降，大型真空腔体加工价格，Ra>1μm。（2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，半导体真空腔体加工价格，Ra＜1μm 。

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在科学设备中，我们一般通过真空泵来获取高真空。简单的真空泵就是机械泵，原理上和小气筒抽气是一样的。只不过是通过转子旋转，将空气从吸气口吸入，然后从出气口排出。机械泵能够达到的真空度大概是1Pa，也就是大气压的十万分之一。

当然了，这样的真空度还远远达不到很多物理实验的要求。这时就要请出另一位“泵”届大佬，分子泵。分子泵利用靠高速旋转的动叶片和静止的定叶片相互配合，给空气分子一个额外的定向速度，从腔体中抽出。

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流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

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