SU8模具制备流程

1.后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，微流控光刻机怎么样，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

2.显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

3.清洗

将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗，宁夏回族自治微流控光刻机，去除多余的光刻胶。

4.检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，微流控光刻机性能，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。

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热板

温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm

公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与创新思维相结合，微流控光刻机公司，为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求卓yue，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。

桌面光刻机

曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

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