使用过程产品: AquaVantage 815 GD浓度: 10%温度: 131-140°F (55°C)设备: 2 套单独的清洗流程，太阳能光伏硅片清洗设备选择， 200L 超声波设备，太阳能光伏硅片清洗设备， 4000L 浸没设备。冲洗: 3 个阶段: 自来水， 去离子水以及终的去离子水. 所有的冲洗需要在接近 22 – 25°C的环境进行.通过一个闭环去离子水系统(水通过去离子水床的连续循环)，终的冲洗被控制在至少4兆欧姆的电阻率。结论: 具有持续良好的清洁能力 。BHC 的优势: 的排气性能和清洗部件能力。使用BRULIN815GD清洗的半导体设备零部件，为更好地去除水分和挥发极低的有机物，要需零部件进行后处理：在惰性气体、真空度为0.13Pa、设定温度为500K（227°）的烘烤箱进行烘烤，进行装配。

在自主动钢网清洗机的试运转期间，无重要部件的损坏（人为缘由除外）部件包含：电磁阀，电机，表面，过滤芯等普通来说验收的大致流程就如上所述，这里把判别的办法描绘出来，供各位参考。操作区上的表面和数字分明，无伤痕。接纳到的设备，太阳能光伏硅片清洗设备供应商，能够满足速度、质量等合同请求（十分规缘由除外）。机器设备能正常运转，运转安稳牢靠，无异常响动，能病持续性运转一星期全主动钢网清洗机能持续病工作，机器设备整体性美观大方，规划合理，机器设备各部件无漏液等现象。

根据清洗介质的不同，太阳能光伏硅片清洗设备企业，目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线。湿法清洗是针对不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗，以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质，可同时采用超声波、加热、真空等辅助技术手段；干法清洗是指不使用化学溶剂的清洗技术，主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等技术。

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