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UV紫外线光氧化技术(波段184)
废气uv光氧催化设备进行有机废气处理的光解氧化机理
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UV光氧氧化技术。光氧氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光解剂本身不发生变化。本产品利用UV紫外线技术(波段184。9nm-253。7nm),产生臭氧,游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。
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废气uv光氧催化设备进行有机废气处理的光解氧化机理包括两个过程:一是在产生高能离子群体的过程中,有机废气处理设备报价,一定数量的有害气体分子受高能作用,废气设备处理,本身分解成单质或转化为无害物质。二是含有大量高能粒子和高活性的自由基的离子群体,与大分子气体(如苯、等)作用,废气处理设备 环保设备,打开了其分子内部的化学键,宣城废气处理设备,转化为无害的小分子物质。而且不会更多的对设备和环境造成不利影响。
废气处理设备的工作原理是将气体中的污染物分离,转化为无害物质,从而达到净化气体的目的。原理:废气处理设备以曝气的形式将恶臭物质分散到含活性污泥的混合液中,通过微生物悬浮生长将恶臭物质降解。可广泛应用。电子(Te)≥离子(Ti)的温度可达104K以上,而离子和中性粒子的温度可低至300~500K。被吸附的气体组分称为吸附剂,多孔的固体物质称为吸附剂。另一方面,低温等离子体处于非平衡态,各粒子的温度不相同。
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