微弧氧化技术 参数-微弧氧化技术-日照微弧氧化生产线(查看)
微弧氧化处理后形成陶瓷层表面颜色只有黑白两色。严重制约了而上釉工艺可以在金属表面涂上色彩并经过高温烧结,形成耐磨,结合力好的表面处理。但是普通的低温釉工艺,烧结温度高达900度,微弧氧化技术,铝镁金属的熔点是600多度,因此严重制约了微弧氧化后处理的发展,微弧氧化技术 参数,对终端消费品外壳的客户来说,彩色是必备的选择。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化设备
微弧氧化
在微弧氧化过程中,化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域,克服了硬质阳极氧化的缺陷,等离子微弧氧化技术,极大地提高了膜层的综合性能。微弧氧化膜层与基体结合牢固,微弧氧化技术实验,结构致密,韧性高,具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。
影响微弧氧化的因素
1、微弧氧化时间的影响:微弧氧化时间一般控制在10~60min。氧化时间越长,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。
2、阴极材料:微弧氧化的阴极材料采用不溶性金属材料。由于微弧氧化电解液多为碱性液,故阴极材料可采用碳钢,不锈钢或镍。其方式可采用悬挂或以上述材料制作的电解槽作为阴极。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术
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