纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”，包银导电辊厂家， 8“发展到12”， 而布线宽度由0.5um减小到0.25um，0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和性元素含量都有特殊要求。
控溅射镀膜是一种物li气相镀膜方式，陕西包银导电辊，现技术已较为成熟，哪家有包银导电辊，主要应用于以下领域：装饰薄膜靶材，建筑玻璃、汽车玻璃、低辐射玻璃，平面显示器，光通讯/光学工业，光数据存储工业，光数据存储工业，磁数据存储工业。
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近十余年来，有关在镍基单晶高温合金上制备Pt改性铝化物涂层的研究已被广泛报道。但铂影响恒温氧化、循环氧化和抗热腐蚀性的具体机制及铂在涂层中的互扩散行为还有待进一步研究。文献采用电化学方法研究了在金属钨、钛、铼、锆及不锈钢和非金属玻碳等基体上电镀铂的初期形核阶段，发现Re基体不适宜电镀铂。
第三代及之后的镍基单晶高温合金含有Re达6 wt.%，且含有较多的Al和其它活泼性高的金属元素，这些元素在强酸性的电镀Pt液中易腐蚀，会影响铂镀层结合力和厚度均匀性。
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