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声发射用于检测特种设备可能存在的活动性缺陷,也可用于已知缺陷的活性评价。不同于其它无损检测方法,声发射检测必须在检测过程中对特种设备进行加载,常用的加载方法为承压设备停止运行后的水压或气压试验,也可采用工况进行直接加载。对活动性缺陷,在加载过程中用多个声发射传感器对被检件进行整体监测,以发现活性声发射源,然后通过对活性声发射源进行表面和内部缺陷识别,排除干扰源。对已知缺陷进行的活性评价是在加载过程中监测已知缺陷,如果无声发射定位源产生,则认为缺陷是非活性的;若有大量声发射定位源信号产生,则认为已知缺陷是活性的。
声发检测的适用范围及特点:
1)声发射是一种动态检测方法,探测到的能量来自被测物本身,而非超声或射线探伤方法一样由无损检测仪器提供。
2)声发射检测方法对线性缺陷较为敏感,能探测到在外加结构应力下线性缺陷的活动情况,且稳定的缺陷不产生声发射信号。
3)在一次试验过程中,声发射检验能够整体探测和评价整个结构中缺陷的状态。
4)对于在役压力容器的定期检验,声发射检测方法可以缩短检验的停产时间或无需停产。
5)对于压力容器的耐压试验,声发射检测方法可以预防由未知缺陷引起的灾难性失效和限定压力容器的工作压力。
压力管道年检
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相控阵检测技术和传统手工超声波检测的原理相同,都是利用超声波反射法对被检工件进行检测,不同的是,传统的超声波检测使用单件探头来偏转声束。在某些情况下,双晶片或单元件聚焦探头也用于减少盲点和提高分辨率。但无论如何,超声波场在介质中以一个角度沿轴传播。单角度扫描限制了不同方向的定性和定量超声检测的可能性。因此,“有效”的标准需要使用多角度光束扫描来提高检测速度。然而,对于复杂的几何形状、大壁厚或有限的探头扫描空间难以实现检测,因此需要多元件相控阵探头和电子聚焦声束来满足上述情况下的检测要求。相控阵探头可实现角度偏转和动态聚焦,这就使超声波检测从二维方向移动变成一维方向移动,可以外置编码器以实现图像存储,经过对A扫、B扫、C扫或D扫图像的分析可有效地检出各种面状缺陷和体积型缺陷。检测结果还可以三维图像显示,为缺陷定位、定量、定性、定级等提供了丰富的信息。与上述TOFD检测技术一样也可实现图像存储,这就为后续的复核与校验提供条件,使得检测结果有效可查询。
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无损检测工艺文件
检测单位应制定无损测工艺文件,无损检测工艺文件包括工艺规和操作指导书。应根据相关法规、产品标准、有关的技术文件和本标准的要求,并针对本检测单位的特点和技术条件编制工艺规程工艺规程应按本部分B/T 7013.27013.13的定确其关因素的具体范围或要求,如相关因素的变化超出规定时,应重新编制或修订。应根据工艺规程并结合检测对象的具体检测要求编制操作指导书;操作指导书中的内容应完整、明确和具体;操作指导书在应用时应进行工艺验证,验证可采用对比试块、模拟试块或直接在检测对象上进行。无损检测工艺文件的内容应满足本部分和 NB/T 47013.2 ~ 7013.13 的相关要求
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