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光纤光谱仪薄膜厚度测量

光学的膜厚测量系统基于白光干涉测量原理,可以测量的膜层厚度10nm-50μm,分辨率为1nm。薄膜测量在半导体晶片生长过程中经常被用到,因为等离子体刻蚀和淀积过程需要监控;其它应用如在金属和玻璃材料基底上镀透明光学膜层也需要测量膜层厚度。配套的广州标旗应用软件包括丰富的各种常用材料和膜层的n值和k值,可以实现膜层厚度的在线监测,并可以输出到Excel文件进行过程控制。



基于微型光纤光谱仪等离子体光谱测量解决方案

随着温度的升高,一般物质依次表现为固态、液态和气态,小型光纤光谱仪厂家,统称为物质的三态。当气体温度进一步升高时,小型光纤光谱仪厂家,分子或原子将由于激烈的相互碰撞而离解为电子和正离子。这时物质将进入一种新的状态,主要由电子和正离子(或带正电的核)组成的状态。这种状态的物质叫等离子体。这种状态也称为物质的第四态。目前直接测量等离子体的仪器主要分为两类:一类是测量等离子体的密度和温度,另一类是测量等离子体的特征谱线(光谱法)。光谱法通过光纤探测等离子体信号,台州小型光纤光谱仪,通过光谱仪进行数据采集和分析。在高温条件下,光谱法作为一种不介入测量诊断技术有着其他方法的优势。等离子体光谱监测常应用于半导体刻蚀等领域。



光纤光谱仪的使用介绍

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