微弧氧化电解液组成及工艺条件

　     微弧氧化电解液组成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，微弧氧化生产线，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300V，并保持5～10s，微弧氧化生产线加工厂，然后将阳极氧化电压上升至450V，电解5～10min。

       两步电解法，靠前步：将铝基工件在200g/L的钾水玻璃水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化5min；第二步：将经靠前步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线

微弧氧化使用范围

       由于微弧氧化技术具有工艺过程简单，占地面积小，处理能力强，微弧氧化生产线供应，生产，微弧氧化生产线多少钱，适用于大工业生产等优点，因此在机械，汽车，电子，航天航空及建筑民用等工业领域有着极其广泛的应用前景。主要可用于对耐磨、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理；同时也可用于建筑和民用工业中对装饰性和耐磨耐蚀要求高的铝基材的表面处理。微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化技术

微弧氧化技术

       为提高铝材料的表面性能，常用的方法有电镀，激光，阳极氧化等，其中微弧氧化技术是基于阳极氧化发展起来的一种的表面强化处理技术。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高电压进行氧化。随着电压的递增，逐步进入火花放电阶段，并通过瞬时高温烧结作用使氧化膜结构发生变化，生成陶瓷膜层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化工艺

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