等离子抛光的原理及工艺特点

等离子抛光利用等离子体在材料表面产生的高能粒子，通过化学反应和物理作用改善材料表面的处理技术。其原理和工艺特点如下：

原理：

等离子体生成：通过加入能量（电场或射频场），使气体分子电离，形成等离子体。

高能粒子效应：等离子体中的电子、离子和自由基具有高能量，能够与材料表面发生化学反应或物理撞击。

表面处理：高能粒子对材料表面进行清洁、去污、抛光，去除微小的凹凸和污染物，提高表面光洁度和均匀性。

等离子抛光加工

等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远低于传统抛光成本。

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等离子抛光同电解既有相似之处也有本质的区别。说他们相似是说他们的抛光后的表面效果差不多。说他的本质区别是等离子抛光成本低和对环境无污染，哪里有等离子抛光加工厂，而电解则相反。电解是靠来对工件进行电化学腐蚀。所以都具有很强的腐蚀性。对人体有很大伤害。对环境污染相当严重。而等离子抛光的抛光盐无腐蚀性，等离子抛光加工，对人体无伤害，对环境也无污染。抛光盐已作过SGS认证，抛光溶剂污水排放也通过ROHS检测无污染。

等离子体纳米抛光是一种新型的金属表面处理工艺，附近等离子抛光加工厂家，只与工件表面的分子层和等离子体发生反应，原子间距一般为0.1-0.3纳米处理深度为0.3-4.5纳米.抛光材料的表面粗糙度为1MM因此，等离子纳米化学活化工件表面去除表面分子污染层。

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