等离子抛光技术在表面微观整平技术的地位

等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一，可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，实现表面微观整平。抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，使得放电通道更多选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长，粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术，为提高产品质量提供了强有力的保障。

等离子抛光为什么抛两次?

等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团.离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，项刻间会使物体达到表面光亮的效果。抛光一次会导致工件向上的部分效果会会稍微差一些、所以需要抛两次、就是把效果稍差的一面翻转180°、再做一次、即可做到均匀。

等离子抛光是近十年才被世人认知和接受的，它的出现让抛光变得简单方便，只需工人做简单的操作、即可操作机台。工艺流程简短、比起传统的手工抛光有很大的优势、而且有属于环保型抛光设备、加上配套处理设备实现零排放、在环保要求越来越严格的今天、一些污染的抛光一定会被取代、等离子抛光将会在未来成为抛光的主流。八溢自动化设备有限公司生产的等离子抛光去毛刺设备，设计到位，简单去除毛刺。欢迎来电！

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