抛光液的温度越低，材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低，抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多，相同条件下生成的气体越少，包围在零件周围的混合气体层越薄，而在压强和电压不变的情况下，气体变薄就意味着电场强度增大，导致碰撞电离系数显著增大，虽然总的碰撞距离减小，但仍然有更多的电子冲击到工件表面，材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下，混合气体层较薄，也意味着气体层不太稳定，等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大，同时气体层薄也意味着系统的电阻减小，电流增大，且电流值大幅度变化，常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象，这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。随着抛光液温度的提高，等离子纳米抛光过程开始稳定，90-100属于理想加工温度范围，在这一范围内材料的去除速度虽然不是快，却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强，混合气层温度升高厚度增加，加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°C时，等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾，蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中，其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高，此时被加工表面电流也会减小。
等离子抛光技术在表面微观整平技术的地位
等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一，可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，实现表面微观整平。抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，使得放电通道更多选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长，粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术，为提高产品质量提供了强有力的保障。
等离子抛光设备的部件是等离子体源，它的参数设置会直接影响抛光的效果。例如，功率密度的变化会导致等离子体源的温度变化，从而影响等离子体中的粒子浓度和能量分布。因此，在操作等离子抛光设备时，需要关注等离子体源的参数设置，确保其稳定性和可靠性，以获得高质量的抛光效果。等离子抛光设备中的气体流量对抛光质量也有很大的影响。气体流量的不足或过多都会影响等离子体的稳定性和抛光效果。因此，在操作等离子抛光设备时，需要根据不同的抛光材料和工艺参数调整气体流量，以达到的抛光效果。
