等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的，首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在还要有被离化的物质，在抛光邻域被离化的物质就是我们的抛光盐，等离子抛光盐是个关键的介质、它也要具备两个条件，一被离化成离子轰击产品表面、二离化的酸根离子要能跟产品表面发生微反应，且是正向的作用、至少不能是负作用，只有这样才能得到等离子抛光的功效。
等离子抛光技术的不足可以通过以下方法来解决
对于不能去除的表面缺陷，可以在等离子抛光之前或之后采用其他的表面处理方法，如机械抛光、电解抛光、离子束抛光等，以达到更好的效果。对于抛光液的补充或更换，可以采用自动化或智能化的控制系统，实时监测和调节抛光液的温度、浓度、pH值等参数，保证抛光液的稳定性和有效性。对于抛光深度较浅的问题，可以通过优化工艺参数，如电压、电流、时间、间隙等，增加等离子体与工件表面的作用强度和时间，提高抛光深度和精度。对于设备的投资成本较高的问题，可以通过提高设备的性能、稳定性、寿命和可靠性，降低设备的运行和维护成本，提高设备的使用效率和回收率，增加设备的经济效益。对于技术的研发和应用还不够成熟的问题，可以通过加强科研投入和合作，开展更多的理论和实验研究，探索更多的应用领域和优化参数，制定更多的标准和规范，推广更多的技术交流和。
如何提高等离子体的生成、控制和稳定性，以实现更高的抛光效率和质量，以及更低的能耗和成本。如何扩大等离子抛光技术的适用范围，以实现对更多种类、形状、尺寸的工件的抛光，以及对更多领域和行业的应用。如何解决等离子抛光技术的环境和安全问题，如如何减少废液的排放和处理，如何避免电磁干扰和噪音等。如何提高等离子抛光技术的智能化和自动化水平，以实现对抛光过程的实时监测、调节和优化，以及对抛光结果的评估和反馈。如何加强等离子抛光技术的理论和实验研究，以揭示等离子抛光过程中发生的复杂的物理、化学、电化学、热力学等机理，以及对工件表面性能的影响规律。
