用正交试验法，微弧氧化技术设备，对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标，微弧氧化技术，以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计，并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察；利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。

结果表明：影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；

影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；

采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为：正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。

ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究

利用硅酸盐复合电解液体系，微弧氧化技术 参数，在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。

所用的工艺参数为：恒流控制，钛合金微弧氧化技术，电流密度3 A/dm^2，频率500 Hz，终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析；对膜层的化学成分进行分析；采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。

结果表明：所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。

微弧氧化(Microarc oxidation， MAO)又称等离子体电解氧化(Plasma electrolytic oxidation， PEO)、微等离子体氧化(Microplasma oxidation， MPO)等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。
微弧氧化技术设备-微弧氧化技术-日照微弧(查看)由日照微弧技术有限公司提供。日照微弧技术有限公司是一家从事“微弧氧化,微弧氧化技术,微弧氧化电源,微弧氧化厂家”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“微弧氧化,微弧氧化技术,微弧氧化电源,微弧氧化厂家”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使日照微弧技术在行业设备中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！