曝光操作步骤
1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。
2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。
4、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，设备将开始进行曝光。
5、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。
6、曝光完成：曝光结束后，微流控光刻机价格，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。
技术参数
曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;
曝光面积：4英寸、6英寸可选；
曝光方式：单面接触式定时曝光；
曝光分辨率：2um；
曝光强度：20~200mW/cm2可调；
曝光不均匀性：≤5%；
光源平行性：≤2°；
光源寿命：≥20000h；
电源输入：AC220V±10V，50HZ
功率：250W
重量：25kg
外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）
工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %
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使用方法该设备操作简单，衢州微流控光刻机，易于上手，具体操作如下：
一、曝光前准备工作
1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。
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