溅射技术:

溅射技术按产生等离子体的方式可分为:

a. 利用直流辉光放电的二极溅射;

b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;

c. 利用射频放电的射频溅射;

d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.

2 磁控溅射阴极结构:

目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.

此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 TiN 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，装饰镀钛选哪家，令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是，在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，萧县镀钛选哪家，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。

在真空条件下，处理镀钛选哪家，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：

装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。

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