滁州太阳能光伏硅片清洗设备-润玺环保设备





根据清洗介质的不同,目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线。湿法清洗是针对不同的工艺需求,采用特定的化学药液和去离子水,对晶圆表面进行无损伤清洗,以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质,可同时采用超声波、加热、真空等辅助技术手段;干法清洗是指不使用化学溶剂的清洗技术,主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等技术。


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网板清洗机有三项清洗工艺,分别是清洗溶液的清洗、超声波的漂洗、风切的除水项溶剂清洗的工艺是应用事前在钢网清洗机内部装配好的夹板夹住钢网,并自动化控制,使网板往复慢拉,保证每一个位置都能被喷淋到位,清洗溶剂在超声波的作用下产生上万的空化气泡。

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