半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

在工业废水处理设备建设之前，应基本完成相应的土建工程。 当安装工程须与土建工程协调时，应完成相关的设备基础，地板和管道沟，混凝土的强度不应低。 在75％的设计强度下，应移除施工现场附近的建筑材料和碎片。  工业废水处理设备以建筑物结构为临时起重支点时，应对结构承载力进行必要的计算，并征得设计部门的同意; 工业废水处理设备安装工程施工前应有设计施工图纸或设备技术文件。 并合理安排临时运输道路，水源，电源，照明等设施，主要材料和机械，劳务。

化工废水处理设备的生化池采用生物接触氧化法。化工废水处理设备包装的体积负荷较低，微生物处于其自身的氧化步骤，产生的泥浆量少。一次排泥只需3. 3个月（90天）。（将其泵入或脱水成泥饼进行运输）。  化工废水处理设备的除臭方法不仅是常规的高空排气，而且是土壤除臭措施。 处理于其他设备。化工废水处理设备的整个设备处理系统配有自动电气控制系统和设备故障报警系统。 操作安全l可靠。 通常，不需要特别的人员管理，只应及时维护和维护化工废水处理设备。化工废水处理设备主要用于居民区（包括别墅），宾馆，医院，工业污水处理，综合办公楼和乡镇污水处理站的各种公共建筑的生活污水处理。 采用化工废水处理设备处理的出水水质，污水处理效率和出水，达到合理的排放标准。
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