等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺，仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内，因此等离子纳米化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质.

等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平。

微观不平处的氧化层薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外，被抛光表面被施加足够高的电压后，它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。

这是目前的抛光技术，电浆抛光加工，在未来有替代化学抛光、电解抛光、机械抛光等污染型抛光技术的趋势。等离子抛光后，材料表面微观形态变化使产品表面质量提升、性能改善：粗糙度降低，均匀性提升，耐磨性和抗腐蚀性更强，抛光难度降低，减少了产品变形，提高了尺寸稳定性，是做产品的利器。

精通眼镜制造的各种工艺技术，还自营有等离子抛光加工点，在多年的实践中，积累了非常丰富的等离子抛光技术的应用经验，等离子抛光能做什么，茂名电浆抛光，不能做什么，能做到什么程度，能解决什么问题，能替代哪些工艺，什么材质和结构的产品用什么参数去抛光等，拥有实际的实战成功案例；并针对有代表性的产品抛光难题进行不断摸索、测试、改进，并进行归纳总结，形成了一套行之有效，成熟稳定的环保抛光工艺体系。

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