微弧氧化的设备

      1. 微弧氧化电源

　　因电压要求较高(一般在510—700V之间)，需专门定制。通常配备硅变压器。电源输出电压：0—750V可调。电源输出大电流：5A、10A、30A、50A、100A等可选。

      2.氧化槽

      一般采用pp焊接槽即可，pp槽具有坚固耐用，防腐蚀。

      3.溶液冷却和搅拌系统

      在微弧氧化过程中，会在工件表面产生瞬时高温高压，为了及时能带走产生的热量及平衡稳定氧化槽的温度，必须配备外循环和热交换方式，溶液的循环同时达到搅拌和冷却槽液的目的。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术

微弧氧化的发展

      由于微弧氧化是在阳极氧化膜被电ji穿的基础上进行的，所以在探讨微弧氧化机理时我们要结合电ji穿理论的研究和发展，从而阐述微弧氧化基本原理。微弧氧化技术就是在电ji穿理论的基础上加以研究和应用的新型表面力一技术。自1932年Betz等观察到电ji穿的现象以来，微弧氧化技术，许多研究者都对电ji穿产生的原因 过各种各样的假设和模型。总体上看，电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。了解电ji穿原理，对于研究微弧氧化机理，开发新的表面处理技术均有着重要的理论意义。

        微弧氧化处理形成的陶瓷氧化膜，与基体呈冶金结合，低电压微弧氧化技术，膜层致密，具有良好的耐磨、耐蚀性能。 氧化膜的硬度一般能达到600-1500HV(膜层厚度20-50μm），耐磨性能优于硬质阳极化膜及电镀硬铬。封孔后耐盐雾试验水平可达2000小时以上。该氧化膜还具有良好的绝缘性，耐500V以上的高压冲击，且有效防止电偶腐蚀；氧化膜还具有良好的隔热特性，是铝合金活塞的首要选择。

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