光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,显影机,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:
高分辨率:SU-8光刻胶具有出色的分辨率,可以制备细致的微结构,适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强:SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调:SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性:SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。
热稳定性:SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻:SU-8光刻胶可用于多层光刻制备,能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛:SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。
匀胶机
调速范围和时间:I档:50~10000转/分,时间0~999s
II档:50~10000转/分,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40W,单相110~240V真空泵抽气速率:>60L/min
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
桌面光刻机
曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;曝光面积:4英寸、6英寸可选;曝光方式:单面接触式定时曝光;曝光分辨率:2um;曝光强度:20~200mW/cm2可调;曝光不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:≥20000h;电源输入:AC220V±10V,50HZ功率:250W重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
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