等离子抛光技术是一种全新的表面处理技术，与传统的机械抛光和化学抛光相比，具有更高的效率、更高的精度和更低的污染性。它可以通过创新的处理方法和设备，实现更加复杂的表面处理效果，为材料加工和制造业的发展带来新的机遇和挑战。等离子技术可以在真空或者惰性气体环境下进行表面处理，避免了空气中的氧化和污染，同时还可以实现对材料表面的透明处理。它可以去除表面的氧化层和污染物，同时保持材料表面的透明性和光泽度，为光学和电子材料的制造提供了新的解决方案。
等离子抛光技术存在哪些难点
如果不采用等离子抛光技术的话，其他的表面处理方法可能会增加工艺的复杂性和成本，也可能会对工件表面造成一些不利的影响，如热损伤、应力集中、表面裂纹等。如果采用自动化或智能化的控制系统可能会增加设备的技术难度和维护要求，也可能会出现一些故障或误差，影响抛光效果和安全性。在优化工艺参数可能会受到一些限制或约束，如电源的容量、电极的材质、抛光液的成分等，也可能会引起一些副作用，如气泡的产生、电极的磨损、抛光液的分解等。在提高设备的性能、稳定性、寿命和可靠性可能会需要更多的研发投入和创新能力，也可能会面临一些技术壁垒或竞争压力，影响设备的市场占有率和利润率。因此，想要做到等离子抛光技术的可行性、有效性、普适性，我们的路还很远，很多问题都还需要进一步克服
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
