等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

等离子抛光技术采用的是无污染的等离子体进行表面处理，会产生相对电解极低废气、废水和废物，通过简单处理即可达标、具有很好的环保性。与传统的化学抛光相比，它可以有效避免化学废液对环境的污染和危害。此外，等离子抛光技术还可以减少机械抛光过程中的摩擦和热量，降低材料的损伤和变形。等离子抛光技术适用于多种材料的表面处理，只针对金属、。它可以处理各种形状和尺寸的工件，包括平板、弯曲、薄膜和微细结构等、不限形状。

抛光设备中电极的形状也会影响抛光质量。电极的形状会直接影响等离子体的产生和分布，从而影响抛光效果。因此，在操作抛光设备时，需要根据不同的抛光材料和工艺参数选择合适的电极形状，以获得的抛光效果。抛光设备中的前处理也会影响抛光质量。前处理包括去除表面污染物和氧化物，以及表面磨削和腐蚀等步骤。前处理不充分或过度会影响抛光质量。因此，在操作抛光设备时，需要对抛光材料进行适当的前处理，以获得的抛光效果。