在湿法清洗工艺路线下，目前主流的清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备和批式旋转喷淋清洗设备等，海南太阳能光伏硅片清洗设备，其中单片清洗设备市场份额占比高。湿法清洗工艺路线下主流的清洗设备存在程度的区分，主要体现在可清洗颗粒大小、金属污染、腐蚀均一性以及干燥技术等标准。目前至纯科技主要生产湿法清洗设备，太阳能光伏硅片清洗设备价格，提供槽式设备（槽数量按需配置）及单片机设备（8-12 反应腔），均可以覆盖 8-12 寸晶圆制造的湿法工艺设备。

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今天要讲的是一个看起来不起眼但同样重要的环节——清洗。半导体清洗主要是为了去除芯片生产中产生的各种沾污杂质，是芯片制造中步骤的工艺，几乎贯穿整个作业流程。由于芯片的加工过程对洁净度要求非常高，所有与芯片接触的媒介都可能对芯片造成污染，半导体设备零部件的洁净度的好坏对半导体芯片制程、芯片质量的控制影响很大。


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