顶旭微控(图)-SU8光刻机性能-辽宁SU8光刻机

耗材

硅片

硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版(又称光罩,SU8光刻机企业,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,SU8光刻机性能,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。





桌面光刻机





曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;曝光面积:4英寸、6英寸可选;曝光方式:单面接触式定时曝光;曝光分辨率:2um;曝光强度:20~200mW/cm2可调;曝光不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:≥20000h;电源输入:AC220V±10V,辽宁SU8光刻机,50HZ功率:250W重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %



日常维护

1、定期清理平行曝光机的载台,SU8光刻机设计,防止它们因积尘或灰尘而影响加工。

2、保持曝光机的表面清洁,防止灰尘和杂质进入设备内部。

微流控芯片加工设备: 提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。





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