等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平？

等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平，利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，则微观凸起位置的材料优先去除，表面粗精度降低。一定条件下抛光所能达到的粗糙度值取决于放电所形成的坑痕的深度，坑痕深度越小，粗糙度值越小。对于抛光开始阶段呈现出的粗糙度快速下降趋势，是因为在抛光的前5分钟，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，而凸起的位置电场强度大，因此放电通道更多地选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快，随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，因此粗糙度下降的速度减小。

等离子抛光的原理

在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。

等离子抛光大部分材质的浓度大概在4%左右，如不锈钢、铜、锌合金，但有些材质浓度额不一样，如锌合金、铝合金、金银等。一般情况4%相差不大都0K。抛光液浓度也会影响抛光电流、整体是浓度越高、电流会降低一些，但不能盲目增加抛光液浓度。一是生产抛光盐的成本会增加，二是当浓度达到一个范围后就会影响抛光质量、所以不能盲目增加抛光液浓度、不然会适得其反。

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